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Lastra di vetro al quarzo ad alta purezza personalizzata 99,99% SiO2 resistente al calore 1150℃ con elevata trasmissione luminosa >92% per semiconduttori da laboratorio
Dischi rotondi personalizzati in vetro al quarzo con purezza SiO2 del 99,99%, trasmissione luminosa >92% e temperatura di esercizio di 1150 ℃. Disponibile con diametro da 1 a 800 mm, spessore da 0,2 a 100 mm. Resistente al calore, alla corrosione e personalizzabile per applicazioni industriali, di laboratorio e di semiconduttori.
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Lastra di quarzo fuso ad alta purezza 99,99% con punto di fusione 1732°C e temperatura di lavoro 1100°C per finestra in quarzo ottico
Piastre in silice fusa ad elevata purezza con 99,99% SiO2, >92% di trasmissione della luce, punto di fusione di 1732 ℃ e temperatura di esercizio di 1150 ℃. Formati personalizzati (diametro 1-800 mm, spessore 0,2-100 mm) con opzioni di punzonatura/taglio. Standard JGS, resistente alla corrosione, durevole alle alte temperature per applicazioni a semiconduttori, laser e ottiche.
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Lastra di vetro al quarzo ad alta purezza personalizzata 99,99% SiO2 con elevata trasmissione UV >92% e resistenza alle alte temperature 1150°C per finestre ottiche
Lastre di vetro al quarzo personalizzate con purezza SiO2 del 99,99%, trasmissione luminosa >92% e temperatura di esercizio di 1150 ℃. Disponibile in spessori da 0,5 a 100 mm con personalizzazione completa compreso taglio, piegatura e saldatura per applicazioni ottiche.
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Lastra di quarzo trasparente UV in silice fusa con 99,99% SiO2 e dimensioni personalizzate
Lastra di vetro al quarzo di silice fusa ad alta purezza con 99,99% SiO2, >92% di trasmissione della luce, trasparente UV, spessore 0,5-100 mm, temperatura di esercizio 1150 ℃. Dimensioni personalizzate, standard JGS, resistente alla corrosione, resistente alle alte temperature, forte isolamento elettrico.
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Piastra di quarzo perforata a macchina di precisione JGS1 JGS2 JGS3 Piastra di quarzo perforata per semiconduttori
Lastre di quarzo forate con lavorazione di precisione nei gradi JGS1/JGS2/JGS3 per applicazioni su semiconduttori. Presenta purezza SiO₂ del 99,99%, temperatura di esercizio di 1100 ℃ e servizi di punzonatura/taglio personalizzati. Disponibile in silice fusa trasparente con campioni gratuiti e MOQ basso.
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Wafer di vetro in quarzo di silicio trasparente fonduto resistente alle alte temperature JGS1 JGS2 JGS3 per la produzione di semiconduttori
High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
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Fabbricazione di semiconduttori
Semiconductor Manufacturing Ultra Thin (0.5mm–3mm) Quartz Glass Plate Product Overview High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured by Shengfan ...
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Fogli di lucidatura in quarzo rotondi personalizzati all'ingrosso senza impurità
Foglio per lucidatura al quarzo di forma rotonda personalizzato all'ingrosso, privo di impurità, con contenuto di SiO₂ al 99,99%, densità 2,2 g/cm³, durezza 6,6, temperatura di lavoro 1100 ℃ e punto di fusione 1732 ℃. Supporta l'elaborazione di punzonatura/taglio e campioni gratuiti per applicazioni di semiconduttori.
