High Quality Optical Fused Silica Punching Quartz Glass Plate for Laboratory Optical Equipment
Dettagli del prodotto
| Punto di fusione: | 1732℃ | Materiale: | SiO2 |
|---|---|---|---|
| Nome di PProduct: | Tubo in vetro Qruartz | Contenuto di SiO2: | 99,99% |
| Campione: | Supporta la produzione di campioni gratuiti | OD: | 10-10000 mm |
| Applicazione: | Semiconduttore | Densità: | 2,2 g/cm3 |
| Servizio di elaborazione: | Taglio a foratura | Temperatura di lavoro: | 1100 ℃ |
| Evidenziare |
fused silica quartz glass plate,laboratory optical quartz plate,punched quartz glass plate |
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Descrizione del prodotto
Punti salienti del prodotto
Piastre di quarzo di silice fusa di elevata purezza al 99,99% con punto di fusione di 1732 ℃ e temperatura di esercizio di 1100 ℃. Ideale per semiconduttori e apparecchiature ottiche. Offre punzonatura, taglio e campioni gratuiti personalizzati. Durevole, efficiente e su misura per specifiche esatte.
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Product description: 1.SiO2> 99.99% ,tubing fused quartz 2.Operating Temperature: 1250℃ 3.Excellent visual and chemical performance . 4.Without surface coating andinfectant . 5.Health care and environmental protection. 6.Any specification can be made. 7.Quartz glass is acidic materials, except hydro ...
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