Tipo | piatto del quarzo |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato/giro |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Tipo | Placca di quarzo ghiacciato |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Passo |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Step |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
Nome | Tubo di vetro al quarzo |
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Caratteristica | Durezza forte |
Forma | Giro |
OD | 3-300 mm |
Trasmissione leggera | >92% |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
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Materiale | SIO2>99.99% |
Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1150℃ |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
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Materiale | SIO2>99.99% |
Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1150℃ |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
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Materiale | SiO2 |
Durezza | morse 6,5 |
Temperatura di lavoro | 1100℃ |
Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
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Materiale | SIO2 |
Durezza | morse 6,5 |
Temperatura di lavoro | 1100℃ |
Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |