Tipo | Piatto di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0,5-100 mm |
forma | quadrato |
Elaborazione del servizio | Piegatura, Saldatura, Punzonatura, Taglio, Lucidatura |
SiO2 | 99,99% |
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Temparature di lavoro | 1200℃ |
Punto della colata | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratorio, biologia, medica |
Colore | Trasparente |
Nome di prodotto | Vetreria per laboratorio sperimentale di scienza dei reattori Iso9001 del quarzo |
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Materiale | silicio fuso |
Temperatura di lavoro | 1100℃ |
Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
Durezza | morse 6,5 |
Tipo | Piatto chiaro del quarzo |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
spessore | 0.5-100mm |
Forma | Piazza |
Servizio di elaborazione | Piegamento, saldando, perforando, tagliare, lucidante |
Materiale | SIO2>99.99% |
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Densità | 2.2g/cm3 |
Transimittance leggero | 92% |
Durezza | Morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1100℃ |
Materiale | SIO2>99.99% |
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Densità | 2.2g/cm3 |
Transimittance leggero | 92% |
Durezza | Morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1100℃ |
Materiale | SIO2>99.99% |
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Densità | 2.2g/cm3 |
Transimittance leggero | 92% |
Durezza | Morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1100℃ |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Tipo | piatto del quarzo |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |