Parola chiave | Vetreria per laboratorio di scienza |
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Nome | strumento del quarzo su misura laboratorio di vetro di processo |
Materiale | silicio fuso |
Temperatura di funzionamento | 1100℃ |
Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
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Materiale | SIO2>99.99% |
Densità | 2,2 (g/cm3) |
Trasmissione leggera | >92% |
Durezza | morse 6,5 |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
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Materiale | 99,99% |
Trasmissione leggera | 92% |
Densità | 2.2g/cm3 |
Temparature di lavoro | 1100℃ |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato/giro |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Tipo | Placca di quarzo ghiacciato |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Passo |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |