| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | 99,99% |
| Trasmissione leggera | 92% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.999% |
| Densità | 2,2 (g/cm3) |
| Trasmissione leggera | >92% |
| Durezza | morse 6,5 |
| Nome di prodotto | lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99,99% |
| densità | 2,2 g/cm3 |
| Durezza | morso 6.5 |
| Temperatura di lavoro | 1150℃ |
| Nome di prodotto | lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99,99% |
| Density | 2.2g/cm3 |
| Durezza | morso 6.5 |
| Temperatura di lavoro | 1150℃ |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Punching, Cutting |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
| Tipo | portatore di wafer di quarzo |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Tubo di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Semi-circolare |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Nome di prodotto | Vetro di quarzo perforato |
|---|---|
| Materiale | SiO2 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | Sio2 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
