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Qualità Tubo capillare di silice fuso di alta purezza disegnato con precisione ID personalizzato OD capillare di quarzo per strumento di laboratorio Fabbrica VIDEO

Tubo capillare di silice fuso di alta purezza disegnato con precisione ID personalizzato OD capillare di quarzo per strumento di laboratorio

Capillare in silice fusa al 99,99% di elevata purezza con temperatura di lavoro di 1100 ℃ e ID/OD personalizzato. Ideale per semiconduttori e strumenti da laboratorio. Supporta campioni gratuiti e taglio/punzonatura di precisione per l'esportazione B2B.
Qualità Resistenza alle alte temperature Diametro personalizzato tubo di vetro al quarzo lattico lucidato per l'industria fotovoltaica Fabbrica VIDEO

Resistenza alle alte temperature Diametro personalizzato tubo di vetro al quarzo lattico lucidato per l'industria fotovoltaica

Tubo in vetro al quarzo lattiginoso SiO₂ al 99,99% di elevata purezza con temperatura di esercizio di 1100 ℃ e diametri personalizzabili da 10 a 10.000 mm. Ideale per applicazioni fotovoltaiche, semiconduttori e di laboratorio. Offre resistenza alla corrosione, campioni gratuiti e servizi di taglio/punzonatura di precisione.
Qualità Ciotola da canto in quarzo trasparente puro al 99,99% con logo personalizzato Fabbrica VIDEO

Ciotola da canto in quarzo trasparente puro al 99,99% con logo personalizzato

Campana tibetana realizzata a mano in puro cristallo di quarzo al 99,99%, dimensioni e design personalizzabili. Ideale per yoga, bagni sonori, bilanciamento dei chakra con frequenze 432Hz/440Hz. Supporta loghi e imballaggi personalizzati.
Qualità Lastra di vetro al quarzo ad alta purezza personalizzata 99,99% SiO2 resistente al calore 1150℃ con elevata trasmissione luminosa >92% per semiconduttori da laboratorio Fabbrica VIDEO

Lastra di vetro al quarzo ad alta purezza personalizzata 99,99% SiO2 resistente al calore 1150℃ con elevata trasmissione luminosa >92% per semiconduttori da laboratorio

Dischi rotondi personalizzati in vetro al quarzo con purezza SiO2 del 99,99%, trasmissione luminosa >92% e temperatura di esercizio di 1150 ℃. Disponibile con diametro da 1 a 800 mm, spessore da 0,2 a 100 mm. Resistente al calore, alla corrosione e personalizzabile per applicazioni industriali, di laboratorio e di semiconduttori.
Qualità Cina Fornitore trasparente UV Quartz Placca di vetro lucidato Disco di quarzo fuso Fabbrica VIDEO

Cina Fornitore trasparente UV Quartz Placca di vetro lucidato Disco di quarzo fuso

Lastre di vetro al quarzo fuso personalizzate con purezza SiO₂ del 99,99%, trasmissione della luce del 92% e temperatura di esercizio di 1100 ℃. Disponibili con superfici lucide, varie forme e dimensioni personalizzate con tolleranza di ±0,02 mm. Ideale per applicazioni industriali a semiconduttori, ottiche e ad alta temperatura.
Qualità Piastra di quarzo fuso ad alta temperatura a forma speciale su misura con trasmissione della luce del 92% Fabbrica VIDEO

Piastra di quarzo fuso ad alta temperatura a forma speciale su misura con trasmissione della luce del 92%

Clear High Temperature Resistance JGS1 GE214 Fused Silica Quartz Disc Product Overview Heat Resistant Quartz Glass Thermostable Optical Material Quartz Glass Plate Custom Fused Quartz Plate with High Transmittance & Density 2.2g/cm³ Customized fused quartz glass plates with 92% light transmittance ...
Qualità Fabbricazione di semiconduttori Fabbrica VIDEO

Fabbricazione di semiconduttori

Semiconductor Manufacturing Ultra Thin (0.5mm–3mm) Quartz Glass Plate Product Overview High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured by Shengfan ...
Qualità Bottiglia professionale personalizzata in quarzo trasparente resistente alla corrosione per laboratorio Fabbrica VIDEO

Bottiglia professionale personalizzata in quarzo trasparente resistente alla corrosione per laboratorio

Bottiglia professionale al quarzo personalizzata con purezza SiO₂ del 99,99%, resistente alla temperatura di lavoro di 1100 ℃ e al punto di fusione di 1732 ℃. Ideale per ricerche di laboratorio, processi di semiconduttori e applicazioni di insegnamento universitario.