Foglio per lucidatura al quarzo di forma rotonda personalizzato all'ingrosso, privo di impurità, con contenuto di SiO₂ al 99,99%, densità 2,2 g/cm³, durezza 6,6, temperatura di lavoro 1100 ℃ e punto di fusione 1732 ℃. Supporta l'elaborazione di punzonatura/taglio e campioni gratuiti per applicazioni di semiconduttori.
High Purity Clear Quartz Tube With Flange For Laboratory Vacuum Furnace Product Overview Customized High Temperature Resistant 1200 Fused Silica Quartz Test Tube with 1100℃ Working Temperature and 99.99% SiO₂ Content Product Specifications Brand Shengfanquartz Product Name Quartz Flange Tube SiO₂ ...
High Temperature Resistant Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured by Shengfan Quartz. Technical ...
Lastre di vetro al quarzo fuso personalizzate con purezza del 99,99%, temperatura di esercizio di 1100°C, trasmissione della luce del 92% e durezza Morse 6,5. Disponibili in dimensioni, forme e superfici lucide personalizzate per applicazioni industriali, ottiche e di semiconduttori.
Piastra in quarzo di silice fusa di grado ottico con trasmittanza del 92%, resistenza al calore di 1150 ℃, elevata purezza (SiO₂>99,99%), densità 2,2 g/cm³ e durezza Morse 6,5. Forme e specifiche personalizzate disponibili per applicazioni UV, macchinari industriali, strumenti ottici e ambienti ad alta temperatura.
Lastre di quarzo di silice fuso trasparenti resistenti alle alte temperature con purezza del 99,99%, temperatura di esercizio di 1100°C, trasmissione della luce del 92% e durezza Morse 6,5. Dimensioni, forme e specifiche personalizzate per applicazioni industriali, ottiche e di semiconduttori.
Lastre personalizzate in quarzo di silice fusa con purezza del 99,99%, temperatura di esercizio di 1100°C, trasmissione della luce del 92% e durezza Morse 6,5. Disponibili in varie forme, dimensioni e finiture superficiali per applicazioni industriali, ottiche e di semiconduttori.
Provetta al quarzo ad alta trasmissione luminosa con contenuto di SiO₂ al 99,99%, temperatura di lavoro fino a 1100℃, punto di rammollimento 1630℃. Ideale per semiconduttori, forni ad alta temperatura e reattori al quarzo da laboratorio. Supporta campioni gratuiti ed elaborazione personalizzata.
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