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Wholesale Customized Impurity Free Round Shape Quartz Polishing Sheet Quartz Window

Foglio per lucidatura al quarzo di forma rotonda personalizzato all'ingrosso, privo di impurità, con contenuto di SiO₂ al 99,99%, densità 2,2 g/cm³, durezza 6,6, temperatura di lavoro 1100 ℃ e punto di fusione 1732 ℃. Supporta l'elaborazione di punzonatura/taglio e campioni gratuiti per applicazioni di semiconduttori.
Qualità Tubo di quarzo trasparente di alta purezza con flangia per forno a vuoto di laboratorio Fabbrica VIDEO

Tubo di quarzo trasparente di alta purezza con flangia per forno a vuoto di laboratorio

High Purity Clear Quartz Tube With Flange For Laboratory Vacuum Furnace Product Overview Customized High Temperature Resistant 1200 Fused Silica Quartz Test Tube with 1100℃ Working Temperature and 99.99% SiO₂ Content Product Specifications Brand Shengfanquartz Product Name Quartz Flange Tube SiO₂ ...
Qualità wafer di quarzo fuso trasparente resistente alle alte temperature per laboratorio Fabbrica VIDEO

wafer di quarzo fuso trasparente resistente alle alte temperature per laboratorio

High Temperature Resistant Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured by Shengfan Quartz. Technical ...
Qualità Piastra in quarzo fuso ad alta purezza del produttore Piastra in quarzo fuso personalizzata ad alta purezza Piastra in vetro di quarzo Fabbrica VIDEO

Piastra in quarzo fuso ad alta purezza del produttore Piastra in quarzo fuso personalizzata ad alta purezza Piastra in vetro di quarzo

Lastre di vetro al quarzo fuso personalizzate con purezza del 99,99%, temperatura di esercizio di 1100°C, trasmissione della luce del 92% e durezza Morse 6,5. Disponibili in dimensioni, forme e superfici lucide personalizzate per applicazioni industriali, ottiche e di semiconduttori.
Qualità Lastra di quarzo fusa di grado ottico con trasmittanza del 92% e resistenza al calore di 1150°C per applicazioni UV Fabbrica VIDEO

Lastra di quarzo fusa di grado ottico con trasmittanza del 92% e resistenza al calore di 1150°C per applicazioni UV

Piastra in quarzo di silice fusa di grado ottico con trasmittanza del 92%, resistenza al calore di 1150 ℃, elevata purezza (SiO₂>99,99%), densità 2,2 g/cm³ e durezza Morse 6,5. Forme e specifiche personalizzate disponibili per applicazioni UV, macchinari industriali, strumenti ottici e ambienti ad alta temperatura.
Qualità Piastra in vetro di quarzo ad alta resistenza alla temperatura, purezza 99,99%, dimensioni personalizzabili, disco di quarzo di silice fusa Fabbrica VIDEO

Piastra in vetro di quarzo ad alta resistenza alla temperatura, purezza 99,99%, dimensioni personalizzabili, disco di quarzo di silice fusa

Lastre di quarzo di silice fuso trasparenti resistenti alle alte temperature con purezza del 99,99%, temperatura di esercizio di 1100°C, trasmissione della luce del 92% e durezza Morse 6,5. Dimensioni, forme e specifiche personalizzate per applicazioni industriali, ottiche e di semiconduttori.
Qualità Alta resistenza al calore 99,99% Purezza Dimensione personalizzata Piastra di cristallo di quarzo di silicio dischetto di quarzo fuso Fabbrica VIDEO

Alta resistenza al calore 99,99% Purezza Dimensione personalizzata Piastra di cristallo di quarzo di silicio dischetto di quarzo fuso

Lastre personalizzate in quarzo di silice fusa con purezza del 99,99%, temperatura di esercizio di 1100°C, trasmissione della luce del 92% e durezza Morse 6,5. Disponibili in varie forme, dimensioni e finiture superficiali per applicazioni industriali, ottiche e di semiconduttori.
Qualità Alta trasmissione luminosa tubo di quarzo alta resistenza alla temperatura tubo di prova di quarzo per laboratorio Fabbrica VIDEO

Alta trasmissione luminosa tubo di quarzo alta resistenza alla temperatura tubo di prova di quarzo per laboratorio

Provetta al quarzo ad alta trasmissione luminosa con contenuto di SiO₂ al 99,99%, temperatura di lavoro fino a 1100℃, punto di rammollimento 1630℃. Ideale per semiconduttori, forni ad alta temperatura e reattori al quarzo da laboratorio. Supporta campioni gratuiti ed elaborazione personalizzata.