Tubo tondo in quarzo trasparente con purezza SiO₂ del 99,99%, resistente alle alte temperature fino a 1100 ℃, punto di fusione 1732 ℃. Dimensioni personalizzate con diametro esterno di 10-10.000 mm per semiconduttori, forni ad alta temperatura e applicazioni di laboratorio. Campioni gratuiti disponibili.
Tubo in vetro al quarzo SiO₂ personalizzato resistente alle alte temperature al 99,99% per forni, apparecchiature per semiconduttori e reattori da laboratorio. Presenta una temperatura di lavoro di 1100 ℃, resistenza alla corrosione e lavorazione personalizzata. Certificato ISO9001, CE, RoHS con campioni gratuiti disponibili.
High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Shengfan Quartz plate characteristic *Brand shengfanquartz *SIO2 99.99% *Density 2.2(g/cm³) *Degree of hardness moh’ scale 6.6 *Melting point 1732℃ * Working temperature 1100℃ *Annealing point 1180℃ *Softening point 1630℃ Setting Information Color Transparent Shape Circular / Round Standard JGS1...
Lastre di quarzo fuso personalizzate con purezza del 99,99%, temperatura di esercizio di 1100°C, trasmissione della luce del 92% e densità 2,2 g/cm³. Disponibili in forme, dimensioni e livelli di lucidatura personalizzati per applicazioni industriali, ottiche e di semiconduttori.
Lastre di quarzo di silice fuso trasparenti resistenti alle alte temperature con purezza del 99,99%, temperatura di esercizio di 1100°C, trasmissione della luce del 92% e durezza Morse 6,5. Dimensioni, forme e specifiche personalizzate per applicazioni industriali, ottiche e di semiconduttori.
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