Tubo in quarzo trasparente fuso di dimensioni personalizzate con purezza SiO₂ del 99,99%, temperatura di esercizio fino a 1100 ℃, intervallo OD 10-10000 mm. Ideale per semiconduttori, forni ad alta temperatura e applicazioni di laboratorio. Campioni gratuiti disponibili con servizi di elaborazione di punzonatura/taglio.
Lastra di vetro al quarzo con perforazione laser per lucidatura personalizzata con purezza SiO₂ del 99,99% per applicazioni su semiconduttori. Presenta resistenza alle alte temperature (temperatura di lavoro 1100 ℃), densità 2,2 g/cm³ e supporta taglio/perforazione personalizzata con campioni gratuiti disponibili.
Dischi rotondi personalizzati in vetro al quarzo con purezza SiO2 del 99,99%, trasmissione luminosa >92% e temperatura di esercizio di 1150 ℃. Disponibile con diametro da 1 a 800 mm, spessore da 0,2 a 100 mm. Resistente al calore, alla corrosione e personalizzabile per applicazioni industriali, di laboratorio e di semiconduttori.
Tubo a spirale personalizzato in vetro al quarzo con purezza SIO2>99,99%, temperatura di funzionamento fino a 1100 ℃, trasmissione luminosa >92% e privo di ozono per uso in laboratorio. Presenta un'eccellente stabilità allo shock termico, resistenza agli acidi/alcali e assenza di bolle d'aria.
Lastre di vetro al quarzo fuso personalizzate con purezza SiO₂ del 99,99%, trasmissione della luce del 92% e temperatura di esercizio di 1100 ℃. Disponibili con superfici lucide, varie forme e dimensioni personalizzate con tolleranza di ±0,02 mm. Ideale per applicazioni industriali a semiconduttori, ottiche e ad alta temperatura.
Tubo in vetro al quarzo ad alta temperatura con purezza SiO₂ del 99,99%, temperatura di esercizio fino a 1100 ℃, intervallo OD 10-10000 mm. Ideale per applicazioni su semiconduttori, laboratori e forni industriali. Taglio/punzonatura personalizzata disponibile con campioni gratuiti.
Lastra di vetro al quarzo di silice fusa ottica forata CNC ad alta precisione con contenuto di SiO₂ del 99,99%, punto di fusione di 1732 ℃ e temperatura di lavoro di 1100 ℃. Produzione personalizzata con servizi di punzonatura/taglio e campioni gratuiti disponibili per applicazioni di semiconduttori.
OEM/ODM Capability High Purity Clear Quartz Tube With Flange For Laboratory Vacuum Furnace ISO 9001 Product Overview Customized High Temperature Resistant 1200 Fused Silica Quartz Test Tube with 1100℃ Working Temperature and 99.99% SiO₂ Content Product Specifications Brand Shengfanquartz Product ...
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