Tubo in quarzo trasparente fuso di dimensioni personalizzate con purezza SiO₂ del 99,99%, temperatura di esercizio fino a 1100 ℃, intervallo OD 10-10000 mm. Ideale per semiconduttori, forni ad alta temperatura e applicazioni di laboratorio. Campioni gratuiti disponibili con servizi di elaborazione di punzonatura/taglio.
Tubi al quarzo personalizzati con purezza SiO2 del 99,99%, resistono allo shock termico di 1200°C. Presenta un punto di rammollimento di 1730 ℃, eccellente resistenza agli acidi e certificazioni CE/RoHS/SGS. Disponibili in dimensioni personalizzate per applicazioni chimiche.
Lastra in vetro al quarzo trasparente con processo CNC con resistenza alle alte temperature (temperatura di lavoro 1100 ℃), purezza SiO₂ del 99,99%, durezza Morse 6,5 e trasmissione della luce superiore al 92%. Forme personalizzate, spessore (0,5-100 mm) e specifiche disponibili con le opzioni di materiale JGS1/JGS2/JGS3.
Tubo in vetro al quarzo SiO₂ personalizzato resistente alle alte temperature al 99,99% per forni, apparecchiature per semiconduttori e reattori da laboratorio. Presenta una temperatura di lavoro di 1100 ℃, resistenza alla corrosione e lavorazione personalizzata. Certificato ISO9001, CE, RoHS con campioni gratuiti disponibili.
Tubo in vetro al quarzo SiO₂ personalizzato resistente alle alte temperature al 99,99% per forni, apparecchiature per semiconduttori e reattori da laboratorio. Presenta una temperatura di lavoro di 1100 ℃, resistenza alla corrosione e lavorazione personalizzata. Certificato ISO9001, CE, RoHS con campioni gratuiti disponibili.
Bottiglia professionale al quarzo personalizzata con purezza SiO₂ del 99,99%, resistente alla temperatura di lavoro di 1100 ℃ e al punto di fusione di 1732 ℃. Ideale per ricerche di laboratorio, processi di semiconduttori e applicazioni di insegnamento universitario.
Tubo personalizzato in vetro al quarzo di grande diametro con purezza SiO₂ del 99,99% per apparecchiature di forni di riscaldamento. Presenta una temperatura di esercizio di 1100 ℃, un punto di fusione di 1732 ℃, resistenza alla corrosione e dimensioni personalizzate fino a 10.000 mm di diametro esterno. Campioni gratuiti disponibili per applicazioni su semiconduttori e forni ad alta temperatura.
Bottiglia in vetro al quarzo con silice fusa ad alta trasparenza per esperimenti di laboratorio di chimica. Presenta un contenuto di SiO₂ del 99,99%, un punto di fusione di 1732 ℃, una temperatura di lavoro di 1100 ℃ e una durezza di 6,6. Ideale per ricerche di laboratorio, processi di semiconduttori e applicazioni di insegnamento universitario.
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