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High Temperature Resistant 1200℃ Quartz Glass Tube with SiO₂ >99.99% Purity and Custom Size Options
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
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Heat Resistant High Purity SiO2>99.99% Custom OD ID Length Quartz Glass Tube for Optical Instruments
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
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High Purity Fused Silica Quartz Glass Tube High Temperature Resistant 1100℃ Custom Size 1mm-1000mm for Laboratory
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
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tubo di vetro di quarzo ad alta purezza 99,99% per apparecchiature di riscaldamento a forno
Tubo personalizzato in vetro al quarzo di grande diametro con purezza SiO₂ del 99,99% per apparecchiature di forni di riscaldamento. Presenta una temperatura di esercizio di 1100 ℃, un punto di fusione di 1732 ℃, resistenza alla corrosione e dimensioni personalizzate fino a 10.000 mm di diametro esterno. Campioni gratuiti disponibili per applicazioni su semiconduttori e forni ad alta temperatura.
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Tubo di quarzo fuso di grande diametro resistente alle alte temperature per forni industriali
Tubo in quarzo di silice fusa di grande diametro con purezza SiO₂ del 99,99%, temperatura di esercizio fino a 1100 ℃. Dimensioni personalizzate da 10 a 10.000 mm di diametro esterno per semiconduttori, forni ad alta temperatura e applicazioni di laboratorio. Campioni gratuiti disponibili.
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Tubo di quarzo trasparente resistente al calore ad alta purezza 1200℃ diretto dalla fabbrica per semiconduttori
Tubo al quarzo ad alta purezza diretto in fabbrica con contenuto di SiO₂ al 99,99%, resistente a temperature di 1200 ℃. Dimensioni personalizzate con diametro esterno di 10-10.000 mm, ideali per semiconduttori, forni ad alta temperatura e applicazioni di laboratorio. Campioni gratuiti disponibili.
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Resistenza alle alte temperature 1100° Resistenza alla corrosione 99,99% SiO2 Tubo di vetro al quarzo per applicazioni in forno
Tubi in vetro al quarzo resistenti alle alte temperature fino a 1100°C con purezza SiO₂ del 99,99%. Resistente alla corrosione, densità 2,2 g/cm³, ideale per forni, apparecchiature per semiconduttori e applicazioni di laboratorio. Opzioni personalizzate disponibili con certificazioni ISO9001, CE, RoHS.
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Fabbrica di tubi a spirale di quarzo trasparenti resistenti alle alte temperature
Shengfan Quartz plate characteristic *Brand shengfanquartz *SIO2 99.99% *Density 2.2(g/cm³) *Degree of hardness moh’ scale 6.6 *Melting point 1732℃ * Working temperature 1100℃ *Annealing point 1180℃ *Softening point 1630℃ Setting Information Color Transparent Shape Circular / Round Standard JGS1...
