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Qualità Fused Silica Glass Plate High Purity Quartz Material Heat High Temperature Quartz Wafer Fabbrica
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Fused Silica Glass Plate High Purity Quartz Material Heat High Temperature Quartz Wafer

Marchio: SF
Numero di modello: JGS2
Luogo di origine: Cina
Certificazione: ISO9001/SGS/ROHS/CE
Quantità minima di ordine: 1 pezzo
Prezzo: Negoziabile
Capacità di fornitura: 10.000 pezzi al mese

Dettagli del prodotto


Punto di ammorbidimento: 1683 gradi Celsius,1780,1780°C Durezza: Morse 6.5
Materiale: SiO2&gt; 99,99% Temperatura di lavoro: 1100℃,1200°C,1200 gradi
Qualità della superficie: Lucido,40/20 60/40 80/50,40/20 60/40,40-20 Spessore: 0,5-100 mm, 1-100 mm, personalizza, da 0,3 mm alle vostre esigenze, 1~20 mm
Evidenziare

high purity fused silica glass plate

,

heat resistant quartz wafer

,

high temperature fused quartz plate

Descrizione del prodotto

Fused Silica Glass Plate High Purity Quartz Material Clear High Temperature Resistance JGS1 GE214 Fused Silica Quartz Disc Product Overview Heat Resistant Quartz Glass Thermostable Optical Material Quartz Glass Plate Custom Fused Quartz Plate with High Transmittance & Density 2.2g/cm³ Customized fused quartz glass plates with 92% light transmittance and 2.2g/cm³ density, available in customized shapes and specifications. Custom Manufacturing Capabilities We produce shaped

Punti salienti del prodotto

Lastre di vetro al quarzo resistenti al calore ad elevata purezza (SiO₂>99,99%) fornite dalla fabbrica con punto di rammollimento 1683°C, temperatura di lavoro 1100-1200°C, durezza Morse 6,5 e trasmissione della luce superiore al 92%. Disponibili forme personalizzate, spessore 0,3-100 mm, superfici lucide e MOQ basso.

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