High Purity 99.99% Fused Silica Plate with 1732C Melting Point and 1100C Working Temperature for Optical Quartz Window
Dettagli del prodotto
| Densità: | 2,2 g/cm3 | Composizione materiale: | SiO2> 99,99% |
|---|---|---|---|
| Trasmissione della luce: | > 92% | Spessore: | 0,5-100 mm |
| Durezza: | Morse 6.5 | Temperatura di lavoro: | 1150 ℃ |
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1732C Melting Point Fused Silica Plate,1100C Working Temperature Quartz Glass Plate,99.99% Purity Optical Quartz Window |
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Descrizione del prodotto
Punti salienti del prodotto
Piastre in silice fusa ad elevata purezza con 99,99% SiO2, >92% di trasmissione della luce, punto di fusione di 1732 ℃ e temperatura di esercizio di 1150 ℃. Formati personalizzati (diametro 1-800 mm, spessore 0,2-100 mm) con opzioni di punzonatura/taglio. Standard JGS, resistente alla corrosione, durevole alle alte temperature per applicazioni a semiconduttori, laser e ottiche.
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Product description: 1.SiO2> 99.99% ,tubing fused quartz 2.Operating Temperature: 1250℃ 3.Excellent visual and chemical performance . 4.Without surface coating andinfectant . 5.Health care and environmental protection. 6.Any specification can be made. 7.Quartz glass is acidic materials, except hydro ...
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