Lastra di vetro al quarzo con perforazione laser per lucidatura personalizzata con purezza SiO₂ del 99,99% per applicazioni su semiconduttori. Presenta resistenza alle alte temperature (temperatura di lavoro 1100 ℃), densità 2,2 g/cm³ e supporta taglio/perforazione personalizzata con campioni gratuiti disponibili.
Lastre in vetro al quarzo resistenti al calore con temperatura di esercizio di 1150 ℃, trasmissione della luce >92% e purezza SiO2 del 99,99%. Disponibile con spessore da 0,5 a 100 mm con standard JGS1/JGS2/JGS3. Opzioni di produzione personalizzate per forni solari, laboratori e applicazioni industriali.
Lastre di vetro al quarzo fuso personalizzate con purezza SiO₂ del 99,99%, trasmissione della luce del 92% e temperatura di esercizio di 1100 ℃. Disponibili con superfici lucide, varie forme e dimensioni personalizzate con tolleranza di ±0,02 mm. Ideale per applicazioni industriali a semiconduttori, ottiche e ad alta temperatura.
Lastra di vetro al quarzo di silice fusa ottica forata CNC ad alta precisione con contenuto di SiO₂ del 99,99%, punto di fusione di 1732 ℃ e temperatura di lavoro di 1100 ℃. Produzione personalizzata con servizi di punzonatura/taglio e campioni gratuiti disponibili per applicazioni di semiconduttori.
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Shengfan Quartz plate characteristic *Brand shengfanquartz *SIO2 99.99% *Density 2.2(g/cm³) *Degree of hardness moh’ scale 6.6 *Melting point 1732℃ * Working temperature 1100℃ *Annealing point 1180℃ *Softening point 1630℃ Setting Information Color Transparent Shape Circular / Round Standard JGS1...
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