Placca di diffusione di gas di quarzo a più fori per il laboratorio di ricerca sulle nuove energie-sara
Pubblicato il: September 12, 2026
Piastra in quarzo forato multi-array per banco di prova a diffusione di gas per celle a combustibile
Contesto del cliente: Nuovo laboratorio di ricerca sull'energia nuova di un'università estera
Requisiti del cliente:
Piastra in vetro di quarzo con fori passanti disposti esagonalmente, intervallo di apertura da 2 mm a 8 mm, temperatura di lavoro fino a 1100 °C, nessuna deformazione in atmosfera ciclica ad alta temperatura. La planarità e l'accuratezza della posizione dei fori influenzano direttamente l'uniformità della diffusione del gas per gli esperimenti di ricerca e sviluppo sulle celle a combustibile.
La nostra soluzione:
Adozione di materiale grezzo di quarzo JGS1 ad alta purezza. Foratura ultrasonica CNC programmata per array di fori esagonali, seguita da ricottura di distensione e lucidatura ottica su entrambi i lati. Tolleranza di spaziatura dei fori rigorosa ±0,03 mm.
Risultato del progetto:
L'uniformità della diffusione del gas raggiunge oltre il 94%. La piastra ha funzionato continuamente per 7 mesi di esperimenti ciclici ad alta temperatura senza crepe o distorsioni. Il laboratorio effettua ordini ripetuti per lotti di ricerca successivi.
Studio di caso 2: Piastra portante sottovuoto in quarzo microforato per produttore di apparecchiature ottiche
Titolo: Piastra a vuoto in quarzo microforato di precisione per apparecchiature di rivestimento ottico
Contesto del cliente: Produttore europeo di apparecchiature ottiche
Requisiti del cliente:
Spessa piastra in quarzo con denso array di microfori per adsorbimento sottovuoto. Apertura 0,3 mm, passo dei fori 1,5 mm. Nessuna micro-crepa attorno ai fori. La piastra funziona in ambiente sottovuoto e ad alta UV per maschere di posizionamento per il rivestimento di lenti. La tradizionale foratura meccanica porta facilmente a scheggiature e micro-crepe nascoste.
La nostra soluzione:
Foratura di precisione laser a picosecondi con parametro di energia graduale per minimizzare la zona termicamente alterata. Lucidatura chimica post-processo e ricottura completa. Ogni foro viene ispezionato al microscopio metallurgico.
Risultato del progetto:
Nessuna micro-crepa al bordo del foro riscontrata nel test di accettazione. Le prestazioni di adsorbimento sottovuoto soddisfano pienamente le specifiche della macchina. Il cliente trasferisce tutto l'approvvigionamento di componenti in quarzo di questo tipo alla nostra azienda dopo la validazione del campione.
Studio di caso 3: Piastra in quarzo con fori di posizionamento personalizzati per apparecchiature ausiliarie per semiconduttori
Titolo: Piastra in vetro di quarzo forato con molteplici fori di posizionamento per maschera di lavorazione wafer per semiconduttori
Contesto del cliente: Fornitore asiatico di apparecchiature per semiconduttori
Requisiti del cliente:
Piastra rettangolare in quarzo con molteplici fori di posizionamento passanti. Tolleranza dimensionale rigorosa per la posizione dei fori; parete interna del foro liscia senza sbavature. Il componente viene utilizzato all'interno di un forno a diffusione ad alta temperatura, richiedendo materiale ad alta purezza senza rischio di contaminazione.
La nostra soluzione:
Substrato di quarzo di grado ottico JGS2. Foratura di precisione CNC + lucidatura fine del foro interno. Ricottura completa di distensione dopo la lavorazione. Consegna del rapporto di ispezione dimensionale completo con la spedizione.
Risultato del progetto:
Superamento dell'ispezione di qualità in entrata del cliente al primo tentativo. La piastra in quarzo funziona stabilmente all'interno del forno ad alta temperatura senza problemi di contaminazione da particelle. Cooperazione a lungo termine per la fornitura di lotti stabilita.
