Tubo di quarzo CVD per il cliente-Amy dei semiconduttori turchi

1. Visualizzazione del progetto

• Cliente: produttore turco di apparecchiature CVD
• Prodotto: tubo di quarzo di silice fuso di alta purezza
• Materiale: quarzo JGS2 a basso tenore di idrossili
• Applicazione: camera di reazione ad alta temperatura per rivestimento di wafer

2Le sfide del cliente

1. Tubi di quarzo ordinari facilmente devitrificati a 1100°C di riscaldamento continuo.
2. Lo spessore irregolare della parete ha influito sull'uniformità del riscaldamento e sulla qualità del wafer.
3. Certificati di prova separati di materiali e rapporti di dimensioni complessi di fabbrica di audit.
4. Lungo tempo di produzione dal vecchio fornitore ritardato la consegna delle attrezzature.

3Le nostre soluzioni

1. Adottare materia prima JGS2 a basso tenore di idrossili per resistere alla nebbiazione ad alta temperatura.
2. Formaggio rotativo di precisione per controllare la tolleranza dello spessore della parete entro ± 0,1 mm.
3. Unire i dati di ispezione TC e dimensionale dei materiali in una relazione completa.
4. Organizzare una linea di produzione dedicata per abbreviare il ciclo di consegna.

4Risultati della cooperazione

• Nessuna devitrificazione dopo un lungo funzionamento del forno, migliorando il rendimento dei wafer.
• Ordini stabili mensili in blocco dopo i test di prova.
• Procedimenti di audit semplificati grazie a documenti di certificazione integrati.
• Il cliente ci ha presentato due partner locali di semiconduttori.

5. Market Insight