Tipo | Placca di quarzo trasparente |
---|---|
Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
---|---|
Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
---|---|
Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Type | Clear Quartz Plate |
---|---|
Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
---|---|
Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
---|---|
Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Nome | PIATTO DEL QUARZO DI XRD |
---|---|
Tipo | Piatto chiaro del quarzo |
Applicazione | Prodotto chimico |
spessore | 0.5-100mm |
Forma | Forma circolare |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
---|---|
Materiale | SIO2>99.99% |
Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1150℃ |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
---|---|
Sio2 | 99,99% |
Temparature di lavoro | 1200℃ |
Punto della colata | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratorio, biologia, medica |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
---|---|
Materiale | SIO2>99.99% |
Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1150℃ |