Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Misto |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Arco |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Materiale | SIO2>99.99% |
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Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1150℃ |
Punto della colata | 1750-1850℃ |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato/giro |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Materiale | SIO2>99.99% |
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Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | Morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1150℃ |
Punto della colata | 1750-1850℃ |
Nome di prodotto | Metropolitana del quarzo |
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Materiale | Sio2 |
durezza | Morse 6,6 |
Punto della colata | 1730℃ |
Temparature di lavoro | 1100℃ |
Tipo | Piatto di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0,5-100 mm |
forma | quadrato |
Elaborazione del servizio | Piegatura, Saldatura, Punzonatura, Taglio, Lucidatura |
Materiale | SIO2>99.99% |
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Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | Morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1150℃ |
Punto della colata | 1750-1850℃ |
Materiale | SIO2>99.99% |
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Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | Morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1150℃ |
Punto della colata | 1750-1850℃ |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |