| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
| Nome di prodotto | lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | 99,99% |
| Trasmissione leggera | 92% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | 99,99% |
| Trasmissione leggera | 92% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro leggera UV-C |
|---|---|
| Materiale | SiO2 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1200℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.999% |
| Densità | 2,2 (g/cm3) |
| Trasmissione leggera | >92% |
| Durezza | morse 6,5 |
| Nome del quarzo | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | 99,99% |
| Trasmissione leggera | 92% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Nome | Piatto su misura alta qualità fuso di vetro di quarzo della lastra di vetro |
|---|---|
| Tipo | Piatto chiaro del quarzo |
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| spessore | 0.5-100mm |
| Forma | Piazza |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Punching, Cutting |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
