| Tipo | Tubo di quarzo chiaro |
|---|---|
| Applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 1-100 mm |
| Forma | Girare |
| Servizio di elaborazione | Pugni, taglio |
| Tipo | Piastra in quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 0,5-100 mm |
| Forma | Piazza |
| Servizio di elaborazione | Pugni, taglio |
| Colore | Chiaro/trasparente |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.99% |
| Tipo di materiale | JGS1/JGS2/JGS3 |
| Durezza | Morse 6,6 |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Nome di prodotto | Recipiente di reazione con il coperchio a vite |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.9% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica, 150 volte che acciaio inossidabile |
| Materiale | SiO2 |
|---|---|
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1200℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
| Forza di Dieletric | 250~400Kv/cm |
| Materiale | SiO2 |
|---|---|
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
| Forza di Dieletric | 250~400Kv/cm |
| Materiale | 99,99% |
|---|---|
| Trasmissione leggera | 92% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Nome di prodotto | Vetreria per laboratorio di scienza |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.99% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temparature di lavoro | 1150℃ |
| Materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Transimittance leggero | 92% |
| durezza | morse 6,5 |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Materiale | SiO2 |
|---|---|
| Temparature di lavoro | 1200℃ |
| Punto della colata | 1850℃ |
| forma | Quadrato/rotondo/qualsiasi forma |
| Spessore | 1mm-50mm |