| Tipo | Tubo di quarzo chiaro |
|---|---|
| Applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 1-100 mm |
| Forma | Girare |
| Servizio di elaborazione | Pugni, taglio |
| Tipo | Tubo di quarzo chiaro |
|---|---|
| Applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 1-100 mm |
| Forma | Girare |
| Servizio di elaborazione | Pugni, taglio |
| Materiale | silicio fuso |
|---|---|
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Nome di prodotto | condensatore di Graham |
|---|---|
| Materiale | silicio fuso |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Materiale | silicio fuso |
|---|---|
| Temperatura di lavoro | 1250℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Applicazione | Prova di laboratorio |
| Materiale | silicio fuso |
|---|---|
| TEMPERATURA DI LAVORO | 1100℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Materiale | silicio fuso |
|---|---|
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Nome di prodotto | Recipiente di reazione del laboratorio |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.9% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica, 150 volte che acciaio inossidabile |
| Materiale | silicio fuso |
|---|---|
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
| Durezza | morse 6,5 |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Materiale | silicio fuso |
|---|---|
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Densità | 2.2g/cm3 |