| Materiale | silicio fuso |
|---|---|
| Temperatura di lavoro | 1250℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Applicazione | Prova di laboratorio |
| Nome di prodotto | Vetreria per laboratorio di scienza |
|---|---|
| Materiale | silicio fuso |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Nome di prodotto | lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SiO2 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
| Tipo | Piatto di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0,5-100 mm |
| forma | quadrato |
| Elaborazione del servizio | Piegatura, Saldatura, Punzonatura, Taglio, Lucidatura |
| Tipo | Tubo di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | circolare |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | misto |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Passo |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | misto |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Piastra in quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 0,5-100 mm |
| Forma | Piazza |
| Servizio di elaborazione | Flessione, saldatura, pugni, lucidatura |
| Colore | Chiaro/trasparente |
|---|---|
| Materiale | SiO2> 99,99% |
| Tipo di materiale | JGS1/JGS2/JGS3 |
| Durezza | Morse 6,6 |
| Densità | 2,2 g/cm3 |