Tipo | Piatto di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0,5-100 mm |
Forma | Piazza |
Servizio di elaborazione | Punzonatura, taglio |
nome | Reattore in vetro al quarzo |
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Materiale | silicio fuso |
Temperatura di lavoro | 1100°C |
Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
Durezza | morse 6,5 |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
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Materiale | SIO2 |
Durezza | morse 6,5 |
Temperatura di lavoro | 1100℃ |
Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |