Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Parola chiave | Vetreria per laboratorio di scienza |
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nome | strumento del quarzo su misura laboratorio di vetro di processo |
Materiale | silicio fuso |
Temperatura di funzionamento | 1100℃ |
Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
Parola chiave | Vetreria per laboratorio di scienza |
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nome | strumento del quarzo su misura laboratorio di vetro di processo |
Materiale | silicio fuso |
Temperatura di funzionamento | 1100℃ |
Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
Parola chiave | Vetreria per laboratorio di scienza |
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nome | strumento del quarzo su misura laboratorio di vetro di processo |
Materiale | silicio fuso |
Temperatura di funzionamento | 1100℃ |
Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |