Nome di prodotto | Vetro di quarzo rotondo |
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Materiale | SIO2>99.99% |
Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | Morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1150℃ |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Parola chiave | Vetreria per laboratorio di scienza |
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Nome | strumento del quarzo su misura laboratorio di vetro di processo |
Materiale | silicio fuso |
Temperatura di funzionamento | 1100℃ |
Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Parola chiave | Vetreria per laboratorio di scienza |
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Nome | strumento del quarzo su misura laboratorio di vetro di processo |
Materiale | silicio fuso |
Temperatura di lavoro | 1100℃ |
Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
materiale | silicio fuso |
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Temperatura di lavoro | 1250℃ |
Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
Durezza | Morse 6,5 |
application | Prova di laboratorio |
nome | Disco di vetro di quarzo |
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Trasmissione leggera | >92% |
densità | 2.2g/cm3 |
Temparature di lavoro | 1100℃ |
Durezza | Morse 6,5 |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |