| Materiale | silicio fuso |
|---|---|
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
| Durezza | morse 6,5 |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Tipo | Piatto di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0,5-100 mm |
| forma | quadrato |
| Elaborazione del servizio | Piegatura, Saldatura, Punzonatura, Taglio, Lucidatura |
| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature di lavoro | 1200℃ |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratorio, biologia, medica |
| Colore | Trasparente |
| Nome di prodotto | Vetreria per laboratorio sperimentale di scienza dei reattori Iso9001 del quarzo |
|---|---|
| Materiale | silicio fuso |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
| Durezza | morse 6,5 |
| Materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Transimittance leggero | 92% |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Transimittance leggero | 92% |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Transimittance leggero | 92% |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Tipo | Piatto chiaro del quarzo |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| spessore | 0.5-100mm |
| Forma | Piazza |
| Servizio di elaborazione | Piegamento, saldando, perforando, tagliare, lucidante |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | piatto del quarzo |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |