| Tipo | Piatto chiaro del quarzo |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrato |
| Elaborazione del servizio | Punzonatura, Taglio, Lucidatura |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.99% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | morse 6,5 |
| Temparature di lavoro | 1150℃ |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SIO2 |
| Durezza | morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
| Tipo | Piatto chiaro del quarzo |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrato |
| Elaborazione del servizio | Piegatura, saldatura, punzonatura, lucidatura |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
| Nome | Metropolitana di vetro del quarzo |
|---|---|
| Caratteristica | Alta trasmissione leggera |
| Uso | Strumento ottico |
| Trasmissione leggera | >92% |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temparature di lavoro | 1150℃ |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Punching, Cutting |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
| Nome di Prodcut | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Trasmissione leggera | >92% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Durezza | Morse 6,5 |
