Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Arco |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato/giro |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Materiale | Vetro di quarzo puro |
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Capacità | 100-850ml |
Uso | casa/hotel/ristorante |
Temparature di lavoro | 1100℃ |
Colore | Trasparente |
Materiale | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
Trasmissione leggera | >92% |
Temparature di lavoro | 1100℃ |
Durezza | Morse 6,5 |
Materiale | SIO2>99.99% |
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OD | 3-300mm |
Trasmissione leggera | >92% |
Temparature di lavoro | 1100℃ |
Durezza | Mose 6,5 |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
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Materiale | SIO2>99.999% |
Trasmissione leggera | >92% |
Durezza | morse 6,5 |
Temperatura di lavoro | 1100℃ |
Nome | isolante di vetro del quarzo |
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Materiale | SIO2>99.999% |
Trasmissione leggera | >92% |
Durezza | Morse 6,5 |
Temperatura di lavoro | 1100℃ |
Materiale | SiO2 |
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Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | Morse 6,5 |
Temperatura di lavoro | 1100℃ |
Trasmissione UV | 80% |