Nome di prodotto | Crogiolo di vetro del quarzo |
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Materiale | Sio2>99.99% |
Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | morse 6,5 |
Punto della colata | 1750-1850℃ |
Nome di prodotto | Recipiente di reazione del laboratorio |
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Materiale | SIO2>99.9% |
Densità | 2.2g/cm3 |
Temperatura di lavoro | 1100℃ |
Tolleranza acida | 30 volte che ceramica, 150 volte che acciaio inossidabile |
Nome di prodotto | Recipiente di reazione con il coperchio a vite |
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Materiale | SIO2>99.9% |
Densità | 2.2g/cm3 |
Temperatura di lavoro | 1100℃ |
Tolleranza acida | 30 volte che ceramica, 150 volte che acciaio inossidabile |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Nome | Metropolitana di vetro del quarzo |
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Applicazione | Fonti, semiconduttore |
Materiale | SIO2>99.99% |
Caratteristica | Buon isolamento elettrico |
Trasmissione della luce | > 92% |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
Tipo | portatore di wafer di quarzo |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |