Tipo | Placca di quarzo trasparente |
---|---|
Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato/giro |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Tipo | Tubo di quarzo trasparente |
---|---|
Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Semi-circolare |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Tipo | Piatto chiaro del quarzo |
---|---|
applicazione | Luce UV, ottica |
Spessore | 0.5-100mm |
Forma | Quadrato |
Elaborazione del servizio | Piegamento, saldare, perforante, taglio |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
---|---|
Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato/giro |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Materiale | SiO2 |
---|---|
Temparature di lavoro | 1200℃ |
Punto della colata | 1850℃ |
forma | Quadrato/rotondo/qualsiasi forma |
Spessore | 1mm-50mm |
SiO2 | 99,99% |
---|---|
Temparature di lavoro | 1200℃ |
Punto della colata | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratorio, biologia, medica |
Colore | Trasparente |
Tipo | Piatto chiaro del quarzo |
---|---|
Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100mm |
Forma | Quadrato |
Elaborazione del servizio | Piegatura, saldatura, punzonatura, lucidatura |
Materiale | SIO2>99.99% |
---|---|
Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | Morse 6,5 |
Punto della colata | 1750-1850℃ |
Temperatura di lavoro | 1110℃ |
Materiale | SiO2 |
---|---|
Durezza | Morse 6,5 |
Temperatura di lavoro | 1100℃ |
Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
Forza di Dieletric | 250~400Kv/cm |
Materiale | SIO2>99.99% |
---|---|
Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | Morse 6,5 |
Punto della colata | 1750-1850℃ |
Temperatura di lavoro | 1110℃ |