| Nome di prodotto | Vetreria per laboratorio di scienze |
|---|---|
| Materiale | silicio fuso |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Tolleranza agli acidi | 30 volte rispetto alla ceramica |
| Durezza | morso 6.5 |
| Materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temparature di lavoro | 1150℃ |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Nome di prodotto | Vetreria per laboratorio di scienza |
|---|---|
| Materiale | silicio fuso |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SIO2 |
| Durezza | morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SIO2 |
| Durezza | morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
| Materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temparature di lavoro | 1150℃ |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temparature di lavoro | 1150℃ |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Nome di prodotto | Lavorare di vetro di precisione |
|---|---|
| Materiale | SiO2 |
| Durezza | morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1200℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
