| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo ghiacciato |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Passo |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato/giro |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Tubo di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Semi-circolare |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Temperatura di lavoro | 1110℃ |
| Nome | Flangia del quarzo della silice fusa |
|---|---|
| Caratteristica | Dimensione accurata |
| Applicazione | Radiatore |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Nome | Tubatura capillare della silice fusa |
|---|---|
| Caratteristica | ad alta densità |
| Materiale | SIO2>99.99% |
| OD | 3-300mm |
| Trasmissione leggera | >92% |
| Nome del prodotto | capillare della silice fusa |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.99% |
| Identificazione | 0,1-2 mm |
| Spessore della parete | 0.1-5mm |
| Trasmissione leggera | >92% |
| Nome di prodotto | capillare della silice fusa |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.99% |
| Identificazione | 0.1-2mm |
| spessore della parete | 0.1-5mm |
| Trasmissione leggera | >92% |
