| Nome di Prodcut | Crogiolo di vetro del quarzo |
|---|---|
| SIO2 | 99,99% |
| Temparature di lavoro | 1200℃ |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratorio, biologia, medica |
| Nome di prodotto | Urna del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.99% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | morse 6,5 |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Tipo | portatore di wafer di quarzo |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Misto |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Arco |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato/giro |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Nome di prodotto | Lavorare di vetro di precisione |
|---|---|
| Materiale | SIO2 |
| Durezza | morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
| Materiale | SiO2 |
|---|---|
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1200℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
| Forza di Dieletric | 250~400Kv/cm |
| Materiale | SiO2 |
|---|---|
| Temparature di lavoro | 1200℃ |
| Punto della colata | 1850℃ |
| forma | Quadrato/rotondo/qualsiasi forma |
| Spessore | 1mm-50mm |
| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature di lavoro | 1200℃ |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratorio, biologia, medica |
| Colore | Trasparente |
