| materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Temperatura di lavoro | 1110℃ |
| Tipo | portatore di wafer di quarzo |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Misto |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Arco |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato/giro |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature di lavoro | 1200℃ |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratorio, biologia, medica |
| Colore | Trasparente |
| Materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Temperatura di lavoro | 1110℃ |
| Nome di prodotto | Recipiente di reazione del laboratorio |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.9% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica, 150 volte che acciaio inossidabile |
| Punto della colata | 1750℃ |
| Nome di prodotto | Recipiente di reazione del laboratorio |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.9% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica, 150 volte che acciaio inossidabile |
| Nome | Flangia del quarzo della silice fusa |
|---|---|
| Caratteristica | Dimensione accurata |
| Applicazione | Radiatore |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
