| nome | Reattore in vetro al quarzo |
|---|---|
| Materiale | silicio fuso |
| Temperatura di lavoro | 1100°C |
| Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
| Durezza | morse 6,5 |
| Tipo | Piastra in quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 0,5-100 mm |
| Forma | Girare |
| Servizio di elaborazione | Pugni, taglio |