Materiale | silicio fuso |
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Temperatura di lavoro | 1100℃ |
Tolleranza acida | 30 volte che ceramica |
Durezza | Morse 6,5 |
Densità | 2.2g/cm3 |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |