| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Arco |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato/giro |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Piastra in quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 0,5-100 mm |
| Forma | Misto |
| Servizio di elaborazione | Flessione, saldatura, pugni, lucidatura |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
| Materiale | Vetro di quarzo puro |
|---|---|
| Capacità | 100-850ml |
| Uso | casa/hotel/ristorante |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Colore | Trasparente |
| Materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Trasmissione leggera | >92% |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Trasmissione leggera | >92% |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Durezza | Mose 6,5 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.999% |
| Trasmissione leggera | >92% |
| Durezza | morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Nome | isolante di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.999% |
| Trasmissione leggera | >92% |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |