| Tipo | Tubo di quarzo chiaro |
|---|---|
| Applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 1-100 mm |
| Forma | piazza |
| Servizio di elaborazione | Pugni, taglio |
| Materiale | SiO2 |
|---|---|
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Trasmissione UV | 80% |
| Materiale | SiO2 |
|---|---|
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Trasmissione UV | 80% |
| Materiale | SiO2 |
|---|---|
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
| Forza di Dieletric | 250~400Kv/cm |
| Materiale | SiO2 |
|---|---|
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Trasmissione UV | 80% |
| Materiale | SiO2 |
|---|---|
| densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Trasmissione UV | 80% |
| Tipo | Tubo di quarzo chiaro |
|---|---|
| Applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 0,5-100 mm |
| Forma | Circolare |
| Servizio di elaborazione | Flessione, saldatura, pugni, lucidatura |
| Tipo | Tubo di quarzo chiaro |
|---|---|
| applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 0,5-100 mm |
| Forma | Circolare |
| Servizio di elaborazione | Flessione, saldatura, pugni, lucidatura |
| Materiale | SiO2 |
|---|---|
| densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Trasmissione UV | 80% |
| Materiale | SiO2 |
|---|---|
| densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Trasmissione UV | 80% |