| Tipo | Piastra in quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 0,5-100 mm |
| Forma | Girare |
| Servizio di elaborazione | Pugni, taglio |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
| Tipo | Piastra in quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 0,5-100 mm |
| Forma | Piazza |
| Servizio di elaborazione | Pugni, taglio |
| Tipo | Piastra in quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 0,5-100 mm |
| Forma | Piazza |
| Servizio di elaborazione | Pugni, taglio |
| Nome del prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SiO2> 99,99% |
| Densità | 2,2 g/cm3 |
| Transimittance leggero | 92% |
| Durezza | Morse 6.5 |
| Nome del prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SiO2> 99,99% |
| Densità | 2,2 g/cm3 |
| Transimittance leggero | 92% |
| Durezza | Morse 6.5 |
| Materiale | Vetro di quarzo puro |
|---|---|
| Capacità | 100-850ml |
| Uso | casa/hotel/ristorante |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Colore | Trasparente |
| Nome di prodotto | Vetro di quarzo |
|---|---|
| Materiale | Sio2 |
| Purezza | >99,99% SiO2 |
| Ammorbidire la temperatura | 1730℃ |
| Temparature di lavoro | 1200℃ |
| Materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Trasmissione leggera | >92% |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Durezza | Morse 6,5 |
| Materiale | SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300mm |
| Trasmissione leggera | >92% |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Durezza | Mose 6,5 |