| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature di lavoro | 1200℃ |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratorio, biologia, medica |
| Colore | Trasparente |
| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature di lavoro | 1200℃ |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratorio, biologia, medica |
| Colore | Trasparente |
| Nome di prodotto | lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | 99,99% |
| Trasmissione leggera | 92% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Nome di prodotto | Crogiolo di vetro del quarzo |
|---|---|
| SIO2 | 99,99% |
| Temparature di lavoro | 1200℃ |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratorio, biologia, medica |
| Tipo | Piatto chiaro del quarzo |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100mm |
| Forma | Quadrato |
| Elaborazione del servizio | Piegamento, saldare, perforante, taglio |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
| Tipo | Tubo di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | circolare |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Tubo di quarzo chiaro |
|---|---|
| Applicazione | Semiconductor, ottico |
| Spessore | 1-100 mm |
| Forma | Piazza |
| Servizio di elaborazione | Pugni, taglio |
| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature di lavoro | 1200℃ |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Utilizzo | Laboratorio, biologia, medica |
| colore | trasparente |
| Tipo | portatore di wafer di quarzo |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |