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"flat bottom test tubes"

Qualità Lastra di vetro al quarzo trasparente ai raggi UV e resistente alle alte temperature di dimensioni personalizzate per apparecchiature a semiconduttore Fabbrica

Lastra di vetro al quarzo trasparente ai raggi UV e resistente alle alte temperature di dimensioni personalizzate per apparecchiature a semiconduttore

Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...

Qualità Placca di vetro in quarzo di silicio fuso resistente alle alte temperature e ad alta trasmissione luminosa Fabbrica

Placca di vetro in quarzo di silicio fuso resistente alle alte temperature e ad alta trasmissione luminosa

Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...

Qualità Lastra in quarzo resistente al calore 1150℃ diretta dalla fabbrica con trasmissione luminosa >92% e dimensioni personalizzate 0,5-100 mm Fabbrica

Lastra in quarzo resistente al calore 1150℃ diretta dalla fabbrica con trasmissione luminosa >92% e dimensioni personalizzate 0,5-100 mm

Piastre al quarzo lucidate direttamente in fabbrica con purezza SiO2 del 99,99%, temperatura di esercizio di 1150 ℃, trasmissione della luce >92% e spessore 0,5-100 mm. Dimensioni personalizzate disponibili con standard JGS, ideali per semiconduttori, ottica e applicazioni industriali che richiedono elevata resistenza al calore e durata.

Qualità Lastra di vetro al quarzo trasparente ad alta resistenza alle alte temperature 1200℃, purezza 99,99%, lastra di vetro di silice fusa Fabbrica

Lastra di vetro al quarzo trasparente ad alta resistenza alle alte temperature 1200℃, purezza 99,99%, lastra di vetro di silice fusa

Piastra al quarzo resistente alle alte temperature con temperatura di esercizio di 1150 ℃, trasmissione della luce >92% e purezza SiO2 del 99,99%. Disponibili in spessori da 0,5 a 100 mm con opzioni di produzione personalizzate per applicazioni di semiconduttori, laboratori e forni.

Qualità Alta purezza personalizzata 99,99% Piastra di vetro al quarzo resistente alle alte temperature con elevata trasmissione luminosa per semiconduttori ottici Fabbrica

Alta purezza personalizzata 99,99% Piastra di vetro al quarzo resistente alle alte temperature con elevata trasmissione luminosa per semiconduttori ottici

Piastra in quarzo trasparente ad alta purezza al 99,99% personalizzata in fabbrica con trasmissione luminosa >92%, standard JGS1/JGS2, temperatura di esercizio fino a 1150 ℃, disponibile con spessore da 0,5 a 100 mm. Opzioni di produzione personalizzate per semiconduttori e applicazioni ottiche con forte resistenza alla corrosione e isolamento elettrico.

Qualità Piastra in quarzo resistente al calore 1200°C con trasmissione luminosa >92% e purezza SiO2 99,99% per forno solare Fabbrica

Piastra in quarzo resistente al calore 1200°C con trasmissione luminosa >92% e purezza SiO2 99,99% per forno solare

Lastre in vetro al quarzo resistenti al calore con temperatura di esercizio di 1150 ℃, trasmissione della luce >92% e purezza SiO2 del 99,99%. Disponibile con spessore da 0,5 a 100 mm con standard JGS1/JGS2/JGS3. Opzioni di produzione personalizzate per forni solari, laboratori e applicazioni industriali.

Qualità Lastra di vetro al quarzo ad alta purezza personalizzata 99,99% SiO2 resistente al calore 1150℃ con elevata trasmissione luminosa >92% per semiconduttori da laboratorio Fabbrica

Lastra di vetro al quarzo ad alta purezza personalizzata 99,99% SiO2 resistente al calore 1150℃ con elevata trasmissione luminosa >92% per semiconduttori da laboratorio

Dischi rotondi personalizzati in vetro al quarzo con purezza SiO2 del 99,99%, trasmissione luminosa >92% e temperatura di esercizio di 1150 ℃. Disponibile con diametro da 1 a 800 mm, spessore da 0,2 a 100 mm. Resistente al calore, alla corrosione e personalizzabile per applicazioni industriali, di laboratorio e di semiconduttori.

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