| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Perforazione, taglio |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Passo |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SIO2 |
| Durezza | morse 6,5 |
| Temperatura di lavoro | 1100℃ |
| Qualità di superficie | 20/40 o 40/60 |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | 99,99% |
| Trasmissione leggera | 92% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Temparature di lavoro | 1100℃ |
| Tipo | Piatto di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0,5-100 mm |
| forma | quadrato |
| Elaborazione del servizio | Piegatura, Saldatura, Punzonatura, Taglio, Lucidatura |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Materiale | SIO2>99.99% |
| Densità | 2.2g/cm3 |
| Durezza | morse 6,5 |
| Temparature di lavoro | 1150℃ |
| Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
|---|---|
| Sio2 | 99,99% |
| Temparature di lavoro | 1200℃ |
| Punto della colata | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratorio, biologia, medica |
| Tipo | Piatto di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0,5-100 mm |
| Forma | Piazza |
| Servizio di elaborazione | Piegatura, Saldatura, Punzonatura, Taglio |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
| Tipo | Placca di quarzo trasparente |
|---|---|
| Applicazione | Semiconduttore, ottico |
| Spessore | 0.5-100 mm |
| Forma | Quadrato |
| Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |