Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
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Materiale | SIO2>99.99% |
Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1150℃ |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
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Materiale | SIO2>99.999% |
Densità | 2,2 (g/cm3) |
Trasmissione leggera | >92% |
Durezza | morse 6,5 |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
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Sio2 | 99,99% |
Temparature di lavoro | 1200℃ |
Punto della colata | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratorio, biologia, medica |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Nome di prodotto | Lastra di vetro del quarzo |
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Materiale | SIO2>99.99% |
Densità | 2.2g/cm3 |
Durezza | morse 6,5 |
Temparature di lavoro | 1150℃ |
Tipo | Piatto chiaro del quarzo |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
spessore | 0.5-100mm |
Forma | Piazza |
Servizio di elaborazione | Piegamento, saldando, perforando, tagliare, lucidante |
Tipo | Placca di quarzo trasparente |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Spessore | 0.5-100 mm |
Forma | Quadrato |
Servizio di elaborazione | Fabbricazione a partire da prodotti della voce 8528 |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
Type | Clear Quartz Plate |
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Applicazione | Semiconduttore, ottico |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |