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Qualità Lastra di vetro al quarzo per foratura laser con lucidatura personalizzata ad alta purezza per semiconduttori Fabbrica VIDEO

Lastra di vetro al quarzo per foratura laser con lucidatura personalizzata ad alta purezza per semiconduttori

Lastra di vetro al quarzo con perforazione laser per lucidatura personalizzata con purezza SiO₂ del 99,99% per applicazioni su semiconduttori. Presenta resistenza alle alte temperature (temperatura di lavoro 1100 ℃), densità 2,2 g/cm³ e supporta taglio/perforazione personalizzata con campioni gratuiti disponibili.
Qualità Ciotola da canto in quarzo trasparente puro al 99,99% con logo personalizzato Fabbrica VIDEO

Ciotola da canto in quarzo trasparente puro al 99,99% con logo personalizzato

Campana tibetana realizzata a mano in puro cristallo di quarzo al 99,99%, dimensioni e design personalizzabili. Ideale per yoga, bagni sonori, bilanciamento dei chakra con frequenze 432Hz/440Hz. Supporta loghi e imballaggi personalizzati.
Qualità Prezzo di fabbrica crogiolo in quarzo ad alta purezza personalizzato Fabbrica VIDEO

Prezzo di fabbrica crogiolo in quarzo ad alta purezza personalizzato

Campana tibetana realizzata a mano in puro cristallo di quarzo al 99,99%, dimensioni e design personalizzabili. Ideale per yoga, bagni sonori, bilanciamento dei chakra con frequenze 432Hz/440Hz. Supporta loghi e imballaggi personalizzati.
Qualità Lastra di vetro al quarzo ad alta purezza personalizzata 99,99% SiO2 con elevata trasmissione UV >92% e resistenza alle alte temperature 1150°C per finestre ottiche Fabbrica VIDEO

Lastra di vetro al quarzo ad alta purezza personalizzata 99,99% SiO2 con elevata trasmissione UV >92% e resistenza alle alte temperature 1150°C per finestre ottiche

Lastre di vetro al quarzo personalizzate con purezza SiO2 del 99,99%, trasmissione luminosa >92% e temperatura di esercizio di 1150 ℃. Disponibile in spessori da 0,5 a 100 mm con personalizzazione completa compreso taglio, piegatura e saldatura per applicazioni ottiche.
Qualità Placca di quarzo fuso ad alta purezza con trasmissione della luce del 92%, temperatura di lavoro di 1150°C e densità di 2,2 g/cm3 Fabbrica VIDEO

Placca di quarzo fuso ad alta purezza con trasmissione della luce del 92%, temperatura di lavoro di 1150°C e densità di 2,2 g/cm3

Clear High Temperature Resistance JGS1 GE214 Fused Silica Quartz Disc Product Overview Heat Resistant Quartz Glass Thermostable Optical Material Quartz Glass Plate Custom Fused Quartz Plate with High Transmittance & Density 2.2g/cm³ Customized fused quartz glass plates with 92% light transmittance ...
Qualità Lastra in quarzo resistente al calore 1150℃ diretta dalla fabbrica con trasmissione luminosa >92% e dimensioni personalizzate 0,5-100 mm Fabbrica VIDEO

Lastra in quarzo resistente al calore 1150℃ diretta dalla fabbrica con trasmissione luminosa >92% e dimensioni personalizzate 0,5-100 mm

Piastre al quarzo lucidate direttamente in fabbrica con purezza SiO2 del 99,99%, temperatura di esercizio di 1150 ℃, trasmissione della luce >92% e spessore 0,5-100 mm. Dimensioni personalizzate disponibili con standard JGS, ideali per semiconduttori, ottica e applicazioni industriali che richiedono elevata resistenza al calore e durata.
Qualità Tubo di vetro di quarzo resistente alle alte temperature a 1200°C con SiO2 > 99,99% di purezza e opzioni di dimensioni personalizzate Fabbrica VIDEO

Tubo di vetro di quarzo resistente alle alte temperature a 1200°C con SiO2 > 99,99% di purezza e opzioni di dimensioni personalizzate

High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Qualità Fogli di vetro di quarzo rettangolare trasparente resistente al calore di alta qualità con fori per semiconduttori Fabbrica VIDEO

Fogli di vetro di quarzo rettangolare trasparente resistente al calore di alta qualità con fori per semiconduttori

Lastra di vetro al quarzo trasparente resistente alle alte temperature con contenuto di SiO₂ del 99,99%, punto di fusione di 1732 ℃, temperatura di esercizio di 1100 ℃. Elaborazione di punzonatura/taglio personalizzata, campioni gratuiti disponibili. Ideale per applicazioni su semiconduttori.