Lastra di vetro al quarzo con perforazione laser per lucidatura personalizzata con purezza SiO₂ del 99,99% per applicazioni su semiconduttori. Presenta resistenza alle alte temperature (temperatura di lavoro 1100 ℃), densità 2,2 g/cm³ e supporta taglio/perforazione personalizzata con campioni gratuiti disponibili.
Campana tibetana realizzata a mano in puro cristallo di quarzo al 99,99%, dimensioni e design personalizzabili. Ideale per yoga, bagni sonori, bilanciamento dei chakra con frequenze 432Hz/440Hz. Supporta loghi e imballaggi personalizzati.
Campana tibetana realizzata a mano in puro cristallo di quarzo al 99,99%, dimensioni e design personalizzabili. Ideale per yoga, bagni sonori, bilanciamento dei chakra con frequenze 432Hz/440Hz. Supporta loghi e imballaggi personalizzati.
Lastre di vetro al quarzo personalizzate con purezza SiO2 del 99,99%, trasmissione luminosa >92% e temperatura di esercizio di 1150 ℃. Disponibile in spessori da 0,5 a 100 mm con personalizzazione completa compreso taglio, piegatura e saldatura per applicazioni ottiche.
Piastre al quarzo lucidate direttamente in fabbrica con purezza SiO2 del 99,99%, temperatura di esercizio di 1150 ℃, trasmissione della luce >92% e spessore 0,5-100 mm. Dimensioni personalizzate disponibili con standard JGS, ideali per semiconduttori, ottica e applicazioni industriali che richiedono elevata resistenza al calore e durata.
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Lastra di vetro al quarzo trasparente resistente alle alte temperature con contenuto di SiO₂ del 99,99%, punto di fusione di 1732 ℃, temperatura di esercizio di 1100 ℃. Elaborazione di punzonatura/taglio personalizzata, campioni gratuiti disponibili. Ideale per applicazioni su semiconduttori.
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